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樓主  發(fā)表于: 2023-04-25 14:17
鍍膜用于學術(shù)性的語言稱之為薄膜沉積(Thin film depositon)是一種常用的表面處理工藝。被廣泛應用于機械加工、半導體、裝飾材料等領(lǐng)域。下面工采網(wǎng)通過本文向大家介紹一下半導體鍍膜工藝中的流量監(jiān)測。





鍍膜是利用化工產(chǎn)品上光性或者樹脂型化工產(chǎn)品在物體表面形成一層薄膜狀態(tài)物質(zhì)、也就是保護層!鍍膜工藝一般是PVD和CVD。PVD:物理氣相沉積。通過plasm轟擊金屬靶材(金靶,銅靶,Al,Cr.....),金屬原子脫離靶材,落在wafer表明,形成薄膜。CVD:化學氣相沉積。這個是通過化學反應,在晶圓表面張氧化薄膜。兩種工藝顯示如下:將鍍膜原料(氣體或蒸汽)經(jīng)過適當?shù)倪^程(如分解、化合)使其沉積于基材表面的方法被稱為化學氣相沉積(CVD),而將鍍膜材料直接冷凝至基材表面成膜則稱為物理氣相沉積(PVD),其中PVD根據(jù)其不同的方法又可細分為蒸發(fā)、離子沉積、離子濺射、磁控濺射、分子束外延等。



另一方面PVD鍍膜加工的原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),使靶材蒸發(fā)成為反應產(chǎn)物沉積在工件上的,物理工藝,綠色健康,質(zhì)最穩(wěn)定。因而在真空鍍膜機中經(jīng)常使用到的熱式氣體質(zhì)量流量控制器主要是用來控制氣體的進氣量,把氣體流量準確的輸入到真空腔室內(nèi)。氣體質(zhì)量流量控制器主要是用于控制微小流量的氣體,采用全新的制作工藝,是在20℃,1個大氣壓條件下標定的,主要是指氣體在1分鐘的體積流量單位。為監(jiān)測熱式氣體質(zhì)量流量控制器流量變化情況工采網(wǎng)推薦使用液體流量傳感器 液體計量用 - PLF2000系列。


PLF2000系列液體流量傳感器,以代替機械渦輪流量傳感器。以MEMS熱流量芯片為核心,PLF2000擁有更高的精度和重復性,即使在流量脈動的情況下也能提供線性數(shù)字輸出。由于沒有活動部件,PLF2000不會卡住,也不會發(fā)生機械故障。清潔時無需拆卸。此外,由于其流道中不會引入障礙物(即渦輪),因此具有zui小的流阻,使液體能夠通過重力、鍋爐或低功率泵來循環(huán)。




得益于精密加工的創(chuàng)新,PLF2000采用第三代熱流量芯片。傳感器芯片采用 一對熱電堆來檢測由質(zhì)量流量引起的溫度梯度變化,提供了極好的信噪比和重復性。“固態(tài)”隔熱結(jié)構(gòu)消除了在競爭技術(shù)中使用表面空腔或易碎膜的需要。傳感器芯片,加上其碳化硅保護膜,能夠直接接觸液體,允許zui高水平的靈敏度和zui低成本的包裝。

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